Trichlorosilane CAS : 10025-78-2

  • Numéro CAS: 10025-78-2

  • Formule chimique: Marchandises

  • Synonymes:

    • chloroforme de silicium

    • étain sous pression de trichlorosilane

    • Trichlorosilane, 98 %

  • Apparence: Liquide incolore

  • Code SH: : 283530090

  • MOQ (quantité minimum de commande): 1 FCL (conteneur complet)


détails du produit

Description des produits du trichlorosilane CAS#:10025-78-2

Le trichlorosilane est un liquide incolore, volatil et fluide, à l'odeur âcre, à température et pression ambiantes. Très inflammable à l'air, il présente également un risque d'incendie à moins de -18 °C. Au contact d'une flamme nue, il brûle fortement en produisant des flammes rouges et de la fumée blanche. Le SiO₂, le HCl et le Cl₂ peuvent former : SiHCl₃ + O₂ → SiO₂ + HCl + Cl₂. La vapeur de trichlorosilane et l'air peuvent former un mélange gazeux explosif à des concentrations très variables, et provoquer une violente explosion sous l'effet de la chaleur. Sa stabilité thermique est supérieure à celle du dichlorosilane. Il peut se décomposer en fumées toxiques de chlorure (HCl), de Cl₂ et de silicium à 900 °C. Au contact de l'humidité, il peut produire de la fumée et réagir violemment avec l'eau : 2SiHCl₃ + 3H₂O → (HSiO)₂O + 6HCl. Il peut se décomposer en lessive et libérer de l'hydrogène : SiHCl3 + 3NaOH + H2O → Si (OH) 4 + 3NaCl + H2 ; et au contact de substances oxydantes, une réaction explosive peut se produire. La réaction avec l'acétylène, les hydrocarbures et autres hydrocarbures organiques peut produire du chlorosilane : SiHCl3 + CH≡CH → CH2CHSiCl3, SiHCl3 + CH2 = CH2 → CH3CH2SiCl3 ; En présence d'hydrure de lithium et d'aluminium, de borohydrure de lithium, le SiHCl3 peut être réduit en silane. Lorsque le récipient est soumis à un choc violent, le SiHCl3 liquide s'enflamme. Il est soluble dans le benzène, l'éther, etc. Le trichlorosilane anhydre ne peut pas corroder le fer et l'acier inoxydable, mais en présence d'humidité, il peut corroder la plupart des métaux.

Propriétés chimiques du trichlorosilane
Point de fusion -127 °C
Point d'ébullition 32-34 °C(lit.)
densité  1,342 g/mL à 25 °C (lit.)
densité de vapeur  1 (contre l'air)
pression de vapeur  9,75 psi (20 °C)
indice de réfraction 1.4-1.402
Fp  7 °F
température de stockage Réfrigérateur
solubilité Soluble dans le benzène, l'éther, l'heptane, le chloroforme et le tétrachlorure de carbone.
formulaire  Liquide
Gravité spécifique 1.342
couleur  Incolore
Odeur Aigu, étouffant, comme de l'acide chlorhydrique.
limite d'explosivité 70%
Solubilité dans l'eau se décompose
Sensible  Sensible à l'air et à l'humidité
Sensibilité hydrolytique 8 : réagit rapidement avec l'humidité, l'eau et les solvants protiques
Merck  14 9646
Stabilité: Stable, mais extrêmement inflammable. Pyrophorique : s'enflamme spontanément dans l'air. Risque d'explosion dans l'air : noter les limites d'explosivité étendues. Réagit violemment au contact de l'eau. Incompatible avec l'humidité, les acides, les bases, les oxydants forts, les alcools et les amines.
InChIKey ZDHKSKKSHFTHFVISN
Référence de la base de données CAS 10025-78-2 (référence de la base de données CAS)
Référence de chimie du NIST Trichlorosilane (10025-78-2)
Système d'enregistrement des substances de l'EPA Trichlorosilane (10025-78-2)

Informations de sécurité
Codes de danger F+,C
Déclarations de risque 12-14-17-20/22-29-35
Déclarations de sécurité 16-26-36/37/39-43-45-7/9-43a
lecteur  UN 1295 4.3/PG 1
WGK Allemagne  1
RTECS VV5950000
4.5-21-31
TSCA Oui
Classe de danger  4.3
Groupe d'emballage je
Code SH  28530090
Données sur les substances dangereuses 10025-78-2 (Données sur les substances dangereuses)
Toxicité DL50 par voie orale chez le rat : 1,03 g/kg (Smyth)

Application du produit Trichlorosilane CAS#:10025-78-2

Il peut être utilisé comme matière première pour le composé polymère de silicium organique, il peut également être utilisé dans l'instrumentation industrielle.
Il peut être utilisé comme matière première pour la production de composés de silicium organique, c'est également la matière première de base pour la production de polysilicium.

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